NSR-SF140光刻机用紫外线灯NLi-7500AL2D

a.接触式曝光（Contact Printing）：掩膜板直接与光刻胶层接触。曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单。接触式，根据施加力量的方式不同又分为：软接触，硬接触和真空接触。1.软接触 就是把基片通过托盘吸附住（类似于匀胶机的基片放置方式），掩膜盖在基片上面；2.硬接触 是将基片通过一个气压（氮气），往上顶，使之与掩膜接触；3.真空接触 是在掩膜和基片中间抽气，使之更加好的贴合（想一想把被子抽真空放置的方式）软i线步进式光刻机NSR-SF150用于半导体器件制造。使用ORC制作所，对应型号：NLi-7500AL2。NSR-SF140光刻机用紫外线灯NLi-7500AL2D

超高圧UVランプは、紫外線波長の中でも、特に3線（436nm・405nm・365nm)を有効に活用できるように開発されており、長寿命で安定した放射照度を持つ高輝度光源です。 アークサイズが極めて点光源に近いため、光学系での光の集中・拡散が容易で、均一な照度分布が得られます。装置メーカーとの共同開発体制を背景に、デバイスメーカーのさまざまな要望に応える開発を進め、高い評価と信頼を得ているリソグラフィ用UVランプです。5kw～16kwクラスまでの幅広いラインナップで、生産性向上・歩留まり改善などに光をご提案します。また、お客さまの新規装置開発にあわせたランプ開発も承ります。NLi-2510A紫外线灯交期多久以紫外线之力，突破半导体工业的极限。

用途:レンズの接着、光学レンズの接着、光ファイバーの接着、電子部品の仮組立・封止など。塗装・コーティングに。乗用車塗装補修、ルアー・釣竿の表面塗装、木工芸品の塗装、店舗やホテルの塗装短時間施工、プリント基板の保護コート、装飾織物の表面コート(帯地の金箔)、FRPの補修、屋外構築物の部分補修など。印刷・マーキングに。電子部品のマーキング、銘版印刷、シール・ラベル印刷、プラスチックフィルム・カードの印刷の部分補修など。

曝光系统重要部件之一是紫外光源。常见光源分为:可见光：g线：436nm紫外光（UV），i线：365nm深紫外光（DUV）,KrF 准分子激光：248 nm, ArF 准分子激光：193 nm极紫外光（EUV），10 ~ 15 nm对光源系统的要求a.有适当的波长。波长越短，可曝光的特征尺寸就越小；[波长越短，就表示光刻的刀锋越锋利，刻蚀对于精度控制要求越高。]b.有足够的能量。能量越大，曝光时间就越短；c.曝光能量必须均匀地分布在曝光区。[一般采用光的均匀度或者叫不均匀度、光的平行度等概念来衡量光是否均匀分布]常用的紫外光光源是高压弧光灯（高压汞灯），高压汞灯有许多尖锐的光谱线，经过滤光后使用其中的g 线（436 nm）或i 线（365 nm）。对于波长更短的深紫外光光源，可以使用准分子激光。例如KrF 准分子激光（248 nm）、ArF 准分子激光（193 nm）和F2准分子激光（157 nm）等。曝光系统的功能主要有：平滑衍射效应、实现均匀照明、滤光和冷光处理、实现强光照明和光强调节等。.我们的紫外线灯可提供专业的售前咨询和售后服务，确保客户满意度和产品可靠性。

高压汞灯在工作时，灯球体内的汞蒸气压达100个保准大气压以上。汞蒸气压愈高，灯的亮度也越高，紫外线强度也越大，而且汞原子谱线宽度变大，分子连续谱与带电粒子复合光谱也更强，特别是595nm以上的红光辐射随灯内工作压强的升高而增强，从而使灯的显色性提高。为了克服由于电极处于极高温度造成钨材料蒸发并沉积在球壁上造成紫外线穿透率下降，光衰加速，从工艺设计上对灯内充入微量卤素，达到有效清洁泡壳的作用，进而可延长汞灯使用寿命。用紫外线点亮半导体，点亮科技进步的未来。NSR-2205i11光刻机用紫外线灯NLi-2000A-1

i线步进式光刻机NSR-2005i11,用于半导体器件制造。使用ORC制作所高压汞灯，功率2KW，型号：NLi-2001AL。NSR-SF140光刻机用紫外线灯NLi-7500AL2D

制造厂家：ORCMANUFACTURINGCO.,LTD产品名称：超高压汞灯（Super-hightpressuremercurylamp）型号:ONL-12001适用设备：FX-66S主要波长分布:365nm/405nm/436nm曝光设备功率：12KW灯管结构：由灯座，阴阳极，石英球体，稀有气体，液体汞等要素构成发光原理：灯管在高温，高压，多种特殊气体的环境下，电子和汞原子相互碰撞，发出多种波长的紫外线光。用途:液晶显示面板制作工厂，TFTArrayPhoto黄光部门曝光设备的光源.交货周期：30天NSR-SF140光刻机用紫外线灯NLi-7500AL2D